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最新产品 > 样品处理设备 > 清洗/消毒设备 > 等离子清洗器>德国普发拓普 PS 300 微波等...
更新时间：2024-05-03 12:10:59 点击：460次
| 产品型号 | PS 300 |
|---|---|
| 参考报价 | 返回顶部 面议 |
| 基本规格 | |
| 产品类型 | 返回顶部 等离子清洗器 |
| 品牌 | 返回顶部 德国普发拓普 |
| 产地 | 返回顶部 |
| 返回顶部 我来纠错（有奖） | |
| 技术参数 | |
| 反应室尺寸 | 返回顶部 直径245mm，深380mm |
| 功率 | 返回顶部 1000w |
| 反应室材质 | 返回顶部 石英 |
| 工作频率 | 返回顶部 2.45GHz |
| 控制方式 | 返回顶部 微处理器控制器 |
| 电源 | 返回顶部 120- 240 V，单相，50/60 Hz |
| 其他信息 | |
| 产品简介 |
主要用在离子注入或刻蚀工艺后去除光刻胶，并且在半导体生产中用于晶圆的清洁和等离子体预处理。根据基片的尺寸不同（2英寸－8英寸），这种通用型系统可以同时处理最多75片晶圆，并适用于硅和其它如III/V族化合物材料。微波等离子体廉价、易于使用、高度活性、高效，且不会对电子装置产生损害。该系统配备洁净的石英晶体处理室或如果使用较高浓度的氟化物气体的话选配带Chemraz全氟化橡胶O形圈的陶瓷处理室，并且包括光学 终点探测和温度指示。 返回顶部 |
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| 应用范围 | 返回顶部此仪器尚未有相关应用 |
| 用户数 | 返回顶部 此仪器尚未有用户数 |
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