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最新产品 > 样品处理设备 > 清洗/消毒设备 > 紫外臭氧清洗>上海四缤UO-10紫外臭氧清洗仪

更新时间:2024-05-06 04:50:47 点击:327次

产品型号 UO-10
参考报价 返回顶部 面议
基本规格
产品类型 返回顶部 紫外臭氧清洗
品牌 返回顶部 四缤
产地 返回顶部 中国大陆
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技术参数
光强 返回顶部 大于28,000瓦每平方厘米(从6mm区域)
电源 返回顶部 220伏特 50赫兹 10安培
仪器尺寸 返回顶部 UV-OZONE CLEANER 10 : 46x 39x 16cm 样品池尺寸:10英寸 UV-OZONE CLEANER 12 : 55x 50x 21cm
其他信息
产品简介

A 用于原子力显微镜探针和其他光学镜头配件等的清洗
B用于各种基底材料的清洗 :

主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法最为合适。
主要基底材料:ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。此UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点,目前在液晶显示器STN的生产过程中,主要是用 在膜处理技术上,对于改善膜与膜之间的密接是非常有效的,如ITO膜与感光胶膜层,TOP涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产 品,用于纳米技术研究,产品经此UV光照射发生化学反应,使产品表面性质改变。STN-LCD、彩色滤光片及OLED的制作过程中,有些制程设备相当雷 同,差别在于制造工艺要求的不同。随着线路的精细化及产品的彩色比,LCD产业对制造工艺的要求也不断地提升,而有"工欲善其事,必先利其器"之需求,因 此只有设备能力不断地精进,才能提高生产的质量与效率。

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技术创新 1、是一种无接触方式,可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。 2、可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。 3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。 4、保证产品的高可靠性和高成品率。 5、产品表面清洗处理的均匀度一致。 6、由于光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物,所以容易发生氧化的表面不宜用光清洗方法,只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多的无机类污垢清洗。
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