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更新时间：2024-05-04 09:59:15 点击：3274次

产品简介
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技术参数

产品型号	PlasmaPro 100 Sapphire
参考报价	返回顶部面议
基本规格
产品类型	返回顶部其他制样/消解装置
品牌	返回顶部牛津仪器
产地	返回顶部英国
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其他信息
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应用范围	返回顶部此仪器尚未有相关应用
用户数	返回顶部此仪器尚未有用户数
技术创新	最新的单晶片刻蚀技术- PlasmaPro 100 Sapphire。牛津仪器致力于固态照明的技术革新，凭着在HBLED相关材料方面经验丰富，设备使用成本控制和符合产量要求的同时，我们的新技术还可以最大化地提高客户的产品良率。?针对HBLED苟刻的化学环境要求，PlasmaPro 100 Sapphire具有特殊的设计，可以在直径为200mm的晶片上进行快速和均匀的刻蚀。牛津仪器一直努力地为客户提供创新的、有效控制成本和可靠的工艺方案。这个最新设计的设备满足了所有的要求。主要特点和优势包括：具有独家的静电吸盘技术，能固定蓝宝石，和生长蓝宝石或硅上的氮化镓；高功率的ICP能生产出高密度的等离子体；磁隔离区可提高离子控制和均匀性；高电导泵水系统可以在低压下最大化地运送气体。返回顶部
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