新型激光直写无掩模光刻机在孚光精仪发布问世
2016-10-17 17:38:00孚光精仪在上海，天津同时发布一款新型激光直写式雾无掩模光刻系统。
这款无掩模光刻机是一款高精度的激光直写光刻机。这套无掩模光刻机具有无掩模技术的便利，大大提高影印和新产品研发的效率，节省时间，是全球领先的无掩模光刻系统。
这款激光直写无掩模光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。
激光直写无掩模光刻系统特色
尺寸：925x925x1600mm
内置计算机控制接口
激光光源：375nm或405nm
视频辅助定位系统
自动聚焦设置
详情浏览：http://www.f-opt.cn/guangkeji.html
激光直写无掩模光刻机参数
线性写取速度：>500mm/s
位移台分辨率：100nm
重复精度： 100nm
晶圆写取面积：1—6英寸
衬底厚度：250微米-10毫米
激光点大小：1-100微米
准直精度：500nm
Email: info@felles.cn 或 felleschina@outlook.com
Web: www.felles.cn （激光光学精密仪器官网）
www.felles.cc （综合性尖端测试仪器官网）
www.f-lab.cn （综合性实验室仪器官网）
Tel: 021-51300728, 4006-118-227
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