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更新时间:2024-05-01 07:17:54 点击:396次

产品型号 LVEM5
参考报价 返回顶部 面议
基本规格
产品类型 返回顶部 透射电镜
品牌 返回顶部 南京覃思
产地 返回顶部 美国
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技术参数
放大倍数 返回顶部 1,500X to 145,000X
其他信息
产品简介

仪器简介:
桌上型低压透射电镜(LVEM5)是DELONG INSTRUMENTS为了在5KV 低压/小型化下实现超高的性能/多样应用,并且集中其各方面电子显微镜领先技术而设计出来的。

低压桌上型电镜(LVEM5)近年在欧美已有一定市场,主要集中于高端生命科学/材料科学研究机构,已被高端用户所接受。现在的市场方针将调整为全面向用户推广,包括大学生命科学/材料科学研究机构、医学中心、制药/病理等等。

LVEM5 优势

通过对LVEM5结构和设计特点的理解,不难总结LVEM5的优点:

1. 真正的桌上型电镜(又称迷你型透射电镜)

2. 多模式 (TEM/STEM/SEM/ED)
四种模式间切换简单快捷一台透射电镜——集成了四种图象模式

3. 高反差 (生物/轻材料非染色应用)
对生物/轻材料,传统电镜难以优化样品本身的结构差异,而难以获得好的反差。因为高能电子束不能区分轻材料中相近的密度和原子序数。
LVEM5 在低能电子束下对密度和原子序数有很高的灵敏度,在0.005 g/cm3 这样小的密度差别仍能显示很好的反差

4. 避免染色剂危害

尽管传统电镜应用中,样品经重金属染色剂染色后,提高了反差,但是
1)事实上所有重金属染色剂对我们人体是有害的,操作必须非常小心并需严格控制;
2)重金属染色剂与样品互相作用,并歪曲样品本身真实结构;
3)重金属染色剂由于其强碱性,可能完全破坏样品。

5. 操作简单

培训操作简单,易于全面理解;
软件提供用户友好操作界面,软件有很好的防错设计;
操作确保简单易懂,无烦琐过程。

6. 低成本

无场所改装要求:无冷却水/防振/外加电源要求;
无须专职操作人员;
耗材几乎为零。

LVEM5主要技术规格
如需查询详细技术规格,请联系中国代理商:南京覃思科技有限公司025-85432178,85432278

技术参数:
KEY FEATURES and SPECIFICATIONS:

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技术创新 主要特点: LVEM5 特点 1.低电压——高反差 LVEM5采用低电压设计,最高电压只有5KV,低电压电子束可达到较传统TEM更高反差的图象。举例来说,对20nm碳膜样品,5KV电压下比100KV电压下反差提高10倍以上。而LVEM5的空间分辨率在低电压下仍能达到2nm。 LVEM5的独特设计,使轻元素(H, C, N, O, S, P)样品能达到高反差的观察效果,而且完全不需要染色(staining or shadowing)。 2.电子/光学双级放大设计 LVEM5设计上与传统TEM的最大不同之处是电子/光学双级放大设计:电镜所成的TEM图像经过LVEM5中纯光学显微镜的二次放大。最大放大倍数近150000倍,其中TEM电镜放大36~360倍,光学显微镜40~400倍。在LVEM5中间的YAG屏就是电子/光学图象的转换器,TEM电镜图象成像于YAG屏上,光学显微镜再放大YAG屏上图像。 由于TEM电镜仅放大360倍,而且电压低(X-Ray防护要求低),因此该TEM为小型透射电镜,与普通光学显微镜大小相当。 3.最好的Schottky FEG LVEM5电子枪采用最好的肖特基热场发射枪(Schottky FEG),为电子枪倒置结构,提供高亮度高相干的电子束,同时电子枪使用寿命可达2000小时以上。高亮度高稳定的电子源充分兼容透射模式(TEM)和扫描模式(SEM)。电镜系统中采用了永久磁铁透镜、静电场透镜、静电场像散校正器,永久磁铁透镜非常稳定而且不需任何冷却。 4.四种图像模式 TEM/ED/STEM/SEM 尽管LVEM5是全世界最小的透射电镜,却兼容传统TEM的所有标准图象模式:TEM/ED/STEM/SEM;而且四种模式间切换简单快捷。VEM5在这四种图像模式下都能达到很好的空间分辨率。其中SEM采用背散射探头(BSE),放大倍率: 1,200 ~ 300,000+,空间分辨率优于 2.5 nm,由于采用BSE探头,样品无须镀导电膜。 5.真正的桌上型电镜 LVEM5是真正的桌上型电镜设计,又称超小型台式透射电镜。LVEM5由三部分组成:电子显微镜、稳压电源、真空系统。标准配置的控制电脑为双显示器。 LVEM5尺寸较传统电镜缩小90%,而且无暗房、冷却水需求,很容易维护/使用,是目前高端电镜中最经济实用的解决方案。 6.图象功能 LVEM5安装了Proscan慢扫描的1300 x 1030 像素CCD照相镜头,获取TEM/ED图象。LVEM5安装了ProDIA图像处理软件,以进行图像的获取、整理、存档等功能,同时配备了图像测量、分析功能。 ProDIA还配备了多样化的图像处理:直方图(Histogram),锐化(Sharpening),等效化(Adaptive Equalisation),对比微分化(Differential Contrast),中值滤波(Median Filter),去噪声化(Noise Reduction),自动对比度调整(Auto Contrast),图像斑点调整即“黑点”校正(Shading Correction),结构化(Structure),反相化(Invert),灰阶化(Convert to 8 bits grayscale),影像旋转90度(Rotation 90 degree),影像翻转(Flip)等等 7.无染色制样 LVEM5采用标准的3mm 铜网承载样品,由于完全不需要染色(staining or shadowing),制样过程得以简化。而且无染色制样可充分保留样品的真实微观结构。 TEM/ED 模式一般要求样品的厚度为~30nm,30nm 样品厚度是针对低电压的应用,以实现低电压的高空间分辨率,而100KV 高电压下那么薄的样品很容易打坏。STEM/SEM 模式下可观察更厚的样品,也可以观察染色的样品
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